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常溫常壓下三氯化硼11(B11Cl3)為無色發(fā)煙氣體,可燃,有刺激性、酸性氣味,遇水分解生成氯化氫和硼酸,并放出大量熱量,在濕空氣中因水解而生成煙霧,在醇中分解為鹽酸和硼酸酯。三氯化硼11反應能力較強,能形成多種配位化合物,三氯化硼加熱能和玻璃、陶瓷起反應,也能和許多有機物反應形成各種有機硼化合物。高純三氯化硼11主要用于(硅)半導體器件制造工藝中的擴散摻雜,在高溫下,經過分解生成硼雜質向硅中擴散,形成P型半導體,也可用于Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、WSi等材料的干法蝕刻。
產品指標
產品用途:
高純三氯化硼11主要用于半導體器件和集成電路制造中擴散摻雜、離子注入、干法蝕刻等工藝。三氯化硼11也可用以制造高純硼、有機合成用催化劑、硅酸鹽分解時的 助熔劑,在合金精制中作為除氧劑、氮化物和碳化物的添加劑。
包裝、貯存:
三氯化硼11充裝于鋼瓶中,包裝規(guī)格為10L和47L,具體包裝規(guī)格可根據用戶要求定制更改。產品儲存于陰涼、干燥、通風庫房內,庫房溫度低于60℃。嚴禁暴曬,遠離熱源。包裝必須密封,與堿類等危險品分開儲存。
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