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        半導體制程(支撐)材料

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        三氟碘甲烷 CAS號:2314-97-8 半導體蝕刻材料

        更新時間:2020-07-04 點擊數:3907

        三氟碘甲烷CF3I作為一種新型環保絕緣氣體,替代SF6應用于電力行業。它具有良好環境特性,絕緣強度優于SF6。CF3I的擊穿分解不會產生有毒產物,一定條件下對絕緣強度等不會產生負面影響。

        產品指標

        產品用途:

        三氟碘甲烷作為滅火劑有滅火效率高、安全性能好、滅火后不留痕跡等特點,是哈龍1301優選替代品種;作為制冷劑,具有油溶性和材料相容性好的特點,是傳統氟利昂制冷劑的理想替代品種之一。作為精密儀器清洗劑,對油污清洗徹底,不需要添加表面活性,且氣體循環使用,不產生二次污染。醫藥級三氟碘甲烷廣泛應用于抗癌藥物(ABT263,ABT737)。高純三氟碘甲烷可用于半導體刻蝕,與同種刻蝕氣體CF4、C4F6相比,蝕刻時具有更高的選擇性和高深寬比。      

        包裝、貯存:

        三氟碘甲烷充裝在鋼質無縫氣瓶中,鋼瓶容積分別為1L、4L、40L、47L、100 L,具體包裝規格可根據用戶需求定制更改。三氟碘甲烷儲存干陰涼、干燥、通風良好的庫房,遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃,儲區應備有泄漏應急處理設備。



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